Tantalum carbide (TaC)dia fitambarana mimari-droa misy tantalum sy karbôna miaraka amin'ny raikipohy simika TaC x, izay matetika miovaova eo anelanelan'ny 0.4 sy 1 ny x. Izy ireo dia fitaovana seramika mafy, mora vaky, tsy mivadika miaraka amin'ny conductivity metaly. Vovoka volontsôkôlà volondavenona izy ireo ary matetika atao amin'ny sintering.
Tantalum carbidedia fitaovana seramika metaly manan-danja. Ny fampiasana tena manan-danja amin'ny tantalum carbide dia ny tantalum carbide coating.
Ny toetra mampiavaka ny tantalum carbide coating
Avo levona: Toetran'ny levona nytantalum carbidedia avo toy ny3880°C, izay mahatonga azy ho mafy orina amin'ny tontolo iainana ambony ary tsy mora miempo na miharatsy.
Fepetra miasa:Amin'ny ankapobeny, ny fepetra fiasan'ny Tantalum carbide (TaC) dia 2200 ° C. Raha jerena ny taham-paharerahana avo dia avo, ny TaC dia natao hahatohitra ny mari-pana ambony toy izany nefa tsy manary ny fahamendrehany ara-drafitra.
Ny hamafin'ny sy ny fitafy fanoherana: Manana hamafin'ny avo dia avo izy (ny hamafin'ny Mohs dia eo amin'ny 9-10 eo ho eo) ary mahatohitra amin'ny fomba mahomby ny fitafy sy ny scratches.
Fahamarinana simika: Manana fitoniana simika tsara amin'ny ankamaroan'ny asidra sy alkali izy ary mahatohitra ny harafesina sy ny fihetsika simika.
Conductivity mafana: Ny conductivity mafana tsara dia ahafahany manaparitaka sy mitondra hafanana tsara, mampihena ny fiantraikan'ny fanangonana hafanana amin'ny fitaovana.
Fampiharana sy tombony amin'ny indostrian'ny semiconductor
MOCVD fitaovana: Ao amin'ny fitaovana MOCVD (deposition etona simika),tantalum carbide coatingsdia ampiasaina amin'ny fiarovana ny efitrano fanehoan-kevitra sy ny singa hafa amin'ny hafanana, hampihenana ny fikorontanan'ny fitaovana amin'ny alàlan'ny fametrahana, ary hanitarana ny fiainan'ny fitaovana.
Tombontsoa: Manatsara ny fanoherana ny hafanana amin'ny fitaovana, mampihena ny faharetan'ny fikojakojana sy ny fandaniana, ary manatsara ny fahombiazan'ny famokarana.
Fanodinana ovy: Ampiasaina amin'ny rafitra fanodinana sy fifindran'ny wafer, ny tantalum carbide coatings dia afaka manatsara ny fanoherana ny fitaovana sy ny fanoherana ny harafesina.
Tombontsoa: Mampihena ny olana momba ny kalitaon'ny vokatra vokatry ny fitafy na ny harafesina, ary miantoka ny fitoniana sy ny tsy fitovian'ny fanodinana wafer.
Fitaovana fanodinana semiconductor: Amin'ny fitaovana fanodinana semiconductor, toy ny ion implanters sy etchers, ny tantalum carbide coatings dia afaka manatsara ny faharetan'ny fitaovana.
Tombontsoa: Hanitatra ny fiainan'ny fitaovana, hampihenana ny fotoana fitsaharana sy ny fandaniana fanoloana, ary hanatsara ny fahombiazan'ny famokarana.
Faritra misy maripana ambony: Ao amin'ny singa elektronika sy fitaovana amin'ny tontolo mafana, ny tantalum carbide coatings dia ampiasaina mba hiarovana ny fitaovana amin'ny hafanana ambony.
Tombontsoa: Miantoka ny fahamarinan-toerana sy ny fahatokisana ny singa elektronika ao anatin'ny toe-javatra mafana be.
Fironan'ny fampandrosoana ho avy
Fanatsarana ara-pitaovana: Miaraka amin'ny fivoaran'ny siansa ara-materialy, ny famolavolana sy ny teknolojia deposition nytantalum carbide coatingsdia hihatsara hatrany mba hanatsarana ny fahombiazany sy hampihenana ny fandaniana. Ohatra, azo amboarina ny akora fanosotra mateza kokoa sy mora vidy kokoa.
Deposition Technology: Ho azo atao ny manana teknolojia deposition mahomby sy mazava kokoa, toy ny teknolojia PVD sy CVD nohatsaraina, mba hanatsarana ny kalitao sy ny fahombiazan'ny tantalum carbide coatings.
Faritra fampiharana vaovao: Ny faritra fampiharana nytantalum carbide coatingshiitatra any amin'ny sehatry ny teknolojia avo lenta sy indostrialy, toy ny aerospace, angovo ary indostrian'ny fiara, mba hanomezana ny fangatahana fitaovana avo lenta.
Fotoana fandefasana: Aug-08-2024