PART/1CVD (Chemical Evaporation Deposition) fomba: Amin'ny 900-2300 ℃, mampiasa TaCl5 sy CnHm ho tantalum sy karbônina loharano, H₂ ho fampihenana ny atmosfera, Ar₂as mitondra entona, fanehoan-kevitra deposition sarimihetsika.Ny coating voaomana dia compact, fanamiana ary fahadiovana avo.Na izany aza, misy ny olana sasany ...
Hamaky bebe kokoa