Silicon nitride mifamatotra silisiôma carbide
Si3N4 mifamatotra SiC seramika refractory fitaovana, dia mifangaro amin'ny avo madio SIC vovoka tsara sy Silicon vovoka, taorian'ny slip fanariana Mazava ho azy, ny fanehoan-kevitra sintered ambanin'ny 1400 ~ 1500 ° C.Nandritra ny sintering Mazava ho azy, ny famenoana ny avo Nitrogen madio ao amin'ny lafaoro, dia ny silisiôma dia hihetsika amin'ny Nitrogen ary hiteraka Si3N4, Ka Si3N4 mifatotra SiC fitaovana dia ahitana silisiôma nitride (23%) sy silisiôma carbide (75%) ho akora fototra. , mifangaro amin'ny akora organika, ary miendrika fifangaroana, extrusion na fandatsahana, avy eo atao aorian'ny fanamainana sy ny nitrogenization.
Toetra sy tombony:
1.Hfandeferana hafanana
2. High thermal conductivity sy ny fahatafintohinana fanoherana
3. Hery mekanika avo sy fanoherana ny abrasion
4.Excellent angovo fahombiazana sy ny harafesiny fanoherana
Manome kojakoja seramika NSiC vita amin'ny kalitao avo lenta sy marin-toetra izahay izay mandeha
1. Slip fanariana
2. Extruding
3. Uni Axial Pressing
4. Isostatic Pressing
Takelaka data material
| > Famoronana simika | sento | 75% |
| Si3N4 | ≥23% | |
| Free Si | 0% | |
| Haavo betsaka (g/cm3) | 2.70～2.80 | |
| Porosity hita maso (%) | 12～15 | |
| Ny hery miondrika amin'ny 20 ℃ (MPa) | 180～190 | |
| Ny hery miondrika amin'ny 1200 ℃ (MPa) | 207 | |
| Ny hery miondrika amin'ny 1350 ℃ (MPa) | 210 | |
| Herin'ny compressive amin'ny 20 ℃ (MPa) | 580 | |
| Conductivity mafana amin'ny 1200 ℃ (w/mk) | 19.6 | |
| Ny fanitarana mafana amin'ny 1200 ℃ (x 10-6 /C) | 4.70 | |
| fanoherana ny fahatafintohinana mafana | tsara | |
| Max.mari-pana (℃) | 1600 | |
WeiTai Energy Technology Co., Ltd. dia mpamatsy seramika semiconductor mandroso ary hany mpanamboatra any Shina izay afaka manome seramika karbida silisiôma madio tsara (indrindra ny SiC Recrystallized) ary ny coating CVD SiC.Ankoatr'izay, ny orinasanay dia manolo-tena amin'ny sehatra seramika toy ny alumina, aluminium nitride, zirconia, ary silisiôma nitride, sns.
Ny vokatra lehibe indrindra ao anatin'izany: silisiôma carbide etching disc, silisiôma carbide sambo tow, silisiôma carbide wafer sambo (Photovoltaic & Semiconductor), silisiôma carbide lafaoro fantsona, silisiôma carbide cantilever fivoy, silisiôma carbide Chucks, silisiôma carbide andry, ary koa ny CVD SiC coating sy TaC coating.Ny vokatra ampiasaina indrindra amin'ny indostrian'ny semiconductor sy photovoltaic, toy ny fitaovana ho an'ny fitomboan'ny kristaly, epitaxy, etching, fonosana, coating sy diffusion furnaces, sns.
Ny orinasanay dia manana ny fitaovana famokarana feno toy ny famolahana, sintering, fanodinana, fitaovana fametahana, sns., izay afaka mameno ny rohy ilaina rehetra amin'ny famokarana vokatra ary manana fifehezana ambony ny kalitaon'ny vokatra;Ny drafitra famokarana tsara indrindra dia azo fidina araka ny filan'ny vokatra, ka miteraka vidiny ambany kokoa ary manome vokatra mifaninana kokoa ho an'ny mpanjifa;Afaka mandamina ny famokarana amin'ny fomba malefaka sy mahomby isika mifototra amin'ny fepetra fanaterana baiko ary miaraka amin'ny rafitra fitantanana ny baiko an-tserasera, manome ny mpanjifa ny fotoana fandefasana haingana kokoa sy azo antoka kokoa.
