Ny sosona oksizenina mafana amin'ny akorandriaka silisiôna dia sosona oksidà na sosona silika miforona eo amin'ny tampon'ny akorandriaka silisiôna eo ambanin'ny toetry ny maripana ambony miaraka amin'ny oxidizing agent.Ny sosona mafana oxide ny silisiôma savaivony dia matetika mitombo ao amin'ny lafaoro fantsona marindrano, ary ny fitomboan'ny mari-pana amin'ny ankapobeny dia 900 ° C ~ 1200 ° C, ary misy fomba fitomboana roa ny "mando oxidation" sy ny "maina oxidation".Ny sosona oksizenina mafana dia sosona oksizenina "nitombo" izay manana homogeneity ambony kokoa sy tanjaky ny dielectric ambony kokoa noho ny sosona oksida napetraka CVD.Ny sosona oxide thermal dia sosona dielectric tena tsara ho toy ny insulator.Amin'ny fitaovana mifototra amin'ny silisiôma maro, ny sosona oksizenina mafana dia mitana anjara toerana lehibe toy ny sosona manakana doping sy ny dielectric surface.
Soso-kevitra: karazana oxidation
1. Oksida maina
Ny silisiôma dia mihetsika amin'ny oksizenina, ary ny sosona oksidena dia mihetsika mankany amin'ny sosona basal.Ny oxidation maina dia mila atao amin'ny hafanana 850 hatramin'ny 1200 ° C, ary ambany ny tahan'ny fitomboana, izay azo ampiasaina amin'ny fitomboan'ny vavahadin'ny MOS insulation.Rehefa ilaina ny sosona oksika silisiôma faran'izay manify, dia aleo ny oxidation maina noho ny oxidation mando.
Fahaizana oxidation maina: 15nm ~ 300nm (150A ~ 3000A)
2. Oksida mando
Ity fomba ity dia mampiasa fifangaroan'ny hidrôzenina sy oksizenina madio tsara mba handoro amin'ny ~ 1000 ° C, ka mamokatra etona rano mba hamoronana sosona oksida.Na dia mando oxidation aza dia tsy afaka mamokatra toy ny avo lenta oxidation sosona toy ny maina oxidation, fa ampy ho ampiasaina ho toy ny faritra mitoka-monina, raha oharina amin'ny maina oxidation manana tombony mazava fa manana tahan'ny fitomboana ambony.
Fahaizana oxidation mando: 50nm~ 15µm (500A ~ 15µm)
3. Fomba maina - fomba mando - fomba maina
Amin'ity fomba ity, ny oksizenina maina madio dia avoaka ao amin'ny lafaoro oxidation amin'ny dingana voalohany, ampiana ny hydrogène eo afovoan'ny oxidation, ary ny hidrôzenina dia voatahiry amin'ny farany mba hanohy ny oxidation amin'ny oksizenina maina madio mba hamorona rafitra oxidation denser noho ny ny fizotry ny oxidation mando mahazatra amin'ny endriky ny etona rano.
4. TEOS oxidation
| Teknika oxidation | Oxydation mando na oxidation maina |
| savaivony | 2″ / 3″ / 4″ / 6″ / 8″ / 12″ |
| Hatevin'ny oksida | 100 Å ~ 15µm |
| fandeferana | +/- 5% |
| Surface | Oksidin'ny lafiny tokana (SSO) / Oksidin'ny lafiny roa (DSO) |
| lafaoro lehibe | Lafaoro fantsona mitsivalana |
| mandatsa-dranomaso | Hidrôzenina sy oksizenina gazy |
| hafanana | 900 ℃ ~ 1200 ℃ |
| Fanondroana refractive | 1.456 |
